排ガスHCl用連続排出ガス監視システム（焼却炉向けCEMSガス分析計）
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塩化水素連続排出監視システム
,HCl CEMSガス分析計
,廃棄物焼却炉向けCEMS
WTオンラインガスモニタリングシステム
1. WT-400分析システムの基本設計原理
WT-400アンモニア分析システムは、高温抽出モニタリング方式を採用し、レーザーベースのNH₃分析計をコアユニットとしています。すべてのガス接触部品は、サンプリング経路全体で180℃以上に加熱・断熱されており、過酷なプロセス条件下でも安定した正確なNH₃測定を保証します。
2. 動作条件と要件
2.1 一般的なプロセス条件
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最大粉塵濃度：< 2000 g/Nm³
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サンプリングポイントでの排ガス温度：≤ 600℃
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サンプリングポイント圧力：-15～15 MPa
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タールおよびベンゼン含有量：< 10 g/Nm³
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飽和水蒸気の存在
2.2 環境条件
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温度制御キャビネットは屋外に設置、分析計ユニットは屋内に設置
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周囲温度：5～45℃
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相対湿度：20～85% RH
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大気圧：10～106 kPa（設置場所による）
2.3 ユーティリティとガス供給
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電源: 220V ±10%、50Hz ±1Hz; 消費電力：5 kVA; 強力な電気的干渉がないこと
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圧縮空気: 目詰まりを防ぐためのサンプリングシステムのパージ用。清浄で乾燥し、オイルフリーで、4～7 kg/cm²の圧力をかけて効果的な洗浄を確保する必要があります
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標準ガス: システムの前処理、校正、性能検証用。測定精度を維持するために、指定された純度要件を満たす必要があります
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No.S 標準ガス圧力S 標準ガス圧力S 標準ガス圧力1 N2 ≥ 99.9999% 0.5 -10 MPa 3. WTKF200アンモニアエスケープオンラインモニタリングシステムの特長 NH3 測定範囲の80% 0.5 -10 MPa 3. WTKF200アンモニアエスケープオンラインモニタリングシステムの特長
統合サンプリングプローブ
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– コンパクトで合理化された設計で、大きな粉塵保持容量を備えています。目詰まりなしで≤ 100 g/Nm³までの粉塵ろ過をサポートします。高ろ過精度
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– 粉塵ろ過精度 ＜ 0.1 μm。高測定精度
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– 分析精度 ±1% FS。高速応答
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– 応答時間（T90）≤ 30秒。高い信頼性
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– 平均故障間隔（MTBF）> 3年。低メンテナンス
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– メンテナンス間隔は1年を超えます。歪みのないサンプリング
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– 高温抽出サンプリング方式により、正確で代表的な測定を保証します。温度制御サンプリング
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– 高温、一定温度設計により、NH₃測定精度を維持します。自動パージ
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– 内蔵の自動洗浄システムが粉塵を除去し、目詰まりを防ぎます。信号出力
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– 4～20 mA出力; 制御アラーム信号NO/NC、1A/220V。お客様固有の要件と動作環境に合わせて、最適な性能と測定精度を保証する、完全にカスタマイズされたガスオンラインモニタリングソリューションを提供しています。
高性能センサー KF200 シリーズ TDLAS レーザーガス分析計 CO O2 NH3 CO2 CH4 H2O HC HF
廃棄物焼却 CEMS 流体ガスHClCO排出量連続モニタリングシステム
KF200 インシチューレーザーガス分析機 TDLAS 産業排出量のCO NH3 HCl O2のリアルタイムモニタリング
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高性能センサー KF200 シリーズ TDLAS レーザーガス分析計 CO O2 NH3 CO2 CH4 H2O HC HF |
TDLAS industrial on-line analyzing and online environmental monitoring
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廃棄物焼却 CEMS 流体ガスHClCO排出量連続モニタリングシステム |
Continuous Emission Monitoring System for HCl and CO in Waste Incineration Flue Gas (CEMS)
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KF200 インシチューレーザーガス分析機 TDLAS 産業排出量のCO NH3 HCl O2のリアルタイムモニタリング |
The KF200 Series Laser Gas Analyzer is specifically designed for industrial online analysis and continuous environmental
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